聚焦离子束刻蚀沉积系统(Helios600)

设备简介：

Helios 600为扫描电镜和聚焦离子束结合的“双束系统”，在实际使用中，在装入样品后首先利用电子束观察，并在样品上寻找感兴趣的区域，然后通过聚焦离子束对该区域进行精确加工。

主要参数：

电子束电压范围：350 V—30 kV;

离子束电压范围：500 V—30 kV，

电子束分辨率 @束交点：0.9 nm @ 15 kV，1.6 nm@ 5 kV，2.5 nm @ 1 kV，

离子束分辨率 @束交点：5.0 nm @30 kV;

测试项目：

微纳尺度下材料的定点切割加工和定位透射电镜样品制备;

在微纳尺度下指定位置选择性的Pt金属沉积和非金属C沉积;

利用电子束在样品表面激发出并形成的衍射菊池带的分析确定晶体结构、取向及相关信息;

利用纳米机械手对纳米材料和器件进行纳米级精确操作和移动;

SEM原位力学性能测试

样品要求：

(1)聚焦离子束加工的样品要求类似扫描电镜样品，基本原则为干净、无磁性、无毒。

(2)对于非导电样品必要时应做导电处理，常用方法为喷金处理。

测试时间：

1~3周