TH2839精密阻抗分析仪测量半导体材料介电常数的方法
TH2839精密阻抗分析仪基于自动平衡电桥原理,精度达0.05%,频率范围20Hz至10MHz,搭配专用夹具与上位机软件,可精准测量半导体材料介电常数(εᵣ)及介质损耗角正切(tanδ)。其核心是通过测量样品等效电容及损耗参数,结合几何尺寸推导介电常数,具体流程如下。

一、测量前准备
设备需搭配TH26077电介质测试夹具、四端对测试线、同惠上位机软件及TH26010校准短路片,需偏置测试可外接TH1778系列偏置电流源。样品优先制成10mm×10mm平板状,双面抛光且平面度误差≤1μm,用高精度测厚仪取3点平均值作为厚度d,误差控制在±0.01mm内,经氩离子清洗去氧化层后,真空静置至室温。测量需在23℃±2℃、相对湿度≤60%环境下进行,减少参数漂移。
二、仪器校准流程
校准旨在消除夹具寄生电容与引线阻抗干扰。开机自检正常后,连接TH26077夹具并确保接触良好。先执行开路校准,记录夹具空载寄生参数;再用TH26010短路片连接电极,完成短路校准,仪器自动补偿误差,校准后保存数据备用。
三、测量参数设置与操作
通过触摸屏设定参数:主参数选并联电容(Cp),副参数选损耗因子(D,即tanδ);测试频率建议100kHz-1MHz,避开干扰频段;AC信号电平设50mVrms-1Vrms,防止高电压激发载流子影响结果;无偏置需求设电压、电流为0,需模拟工况可调节对应偏置值。
将预处理样品平稳放入夹具电极间,确保贴合无气泡,轻压固定且屏蔽层接地。按下“开始”键,可选单次测量或频率扫描模式,仪器实时采集Cp与D数据。
四、数据处理与计算
测量完成后,数据可通过仪器存储或USB、LAN接口导出至PC。建议对同一样品重复测量3次取平均值,降低随机误差。基于平行板电容器原理,介电常数计算公式为:εᵣ = (Cp × d) / (ε₀ × A),其中ε₀为真空介电常数(8.854×10⁻¹² F/m),A为夹具电极固定有效面积。tanδ直接读取D值,复介电常数虚部ε''=ε'×tanδ,上位机软件可自动计算并通过等效电路模型拟合优化精度。
五、注意事项
半导体介电常数具频率依赖性,需记录测量频率,必要时进行多频率扫描。定期用无水乙醇清洁夹具电极,测量前后擦拭,校准后避免触碰测试端。测量结果需与文献值对比,偏差过大时检查样品制备、校准流程及参数设置。每月用短路片验证校准精度,长期闲置后开机预热30分钟,保障仪器稳定性。
综上,TH2839通过“校准-测量-拟合”标准化流程,可实现半导体材料介电常数高精度测量,适用于研发及性能评估场景。
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